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    中微公司刻蝕設備市占率大幅提升 預計2023年凈利潤同比增逾45%

    每日經濟新聞 2024-01-14 22:37:17

    ◎中微公司預計2023年營業收入約62.6億元,較2022年增加約15.2億元,同比增長約32.1%;預計2023年度實現歸屬于母公司所有者的凈利潤為17億元至18.5億元,同比增加約45.32%至58.15%。

    每經記者 趙李南    每經編輯 宋思艱    

    1月14日,中微公司(SH688012,股價134.66元,市值833.90億元)發布《2023年年度業績預告》。

    中微公司預計2023年營業收入約62.6億元,較2022年增加約15.2億元,同比增長約32.1%;預計2023年度實現歸屬于母公司所有者的凈利潤為17億元至18.5億元,同比增加約45.32%至58.15%。

    《每日經濟新聞》記者注意到,中微公司的業績增長主要源于其刻蝕設備市占率的提升。“2023年公司CCP(電容性耦合的等離子體源)和ICP(電感性耦合的等離子體源)刻蝕設備均在國內主要客戶芯片生產線上市占率大幅提升。”中微公司表示。

    2023年,中微公司的MOCVD(金屬有機化合物化學氣相沉積)設備銷售額受下游市場景氣度影響,有所下滑。

    刻蝕設備市占率提升

    從營業收入構成上看,中微公司預計其2023年刻蝕設備銷售約47億元,同比增長約49.4%;MOCVD設備銷售約4.6億元,同比下降約34.0%。

    中微公司表示,公司2023年新增訂單金額約83.6億元,較2022年新增訂單的63.2億元增加約20.4億元,同比增長約32.3%。其中刻蝕設備新增訂單約69.5億元,同比增長約60.1%;MOCVD設備新增訂單約2.6億元,由于終端市場波動影響,同比下降約72.2%。

    對于業績增長的原因,中微公司稱,近年隨著人工智能、云計算、大數據、自動駕駛等新興產業進一步加速發展,半導體微觀加工設備作為數碼產業的關鍵基石,其市場高速發展。公司主營產品等離子體刻蝕設備作為半導體前道核心設備之一,市場空間廣闊,技術壁壘較高。

    “公司開發的多類刻蝕設備在性能、硬件穩定性等方面滿足了客戶先進制程中各類嚴苛需求,在產業化推進過程中取得顯著成果。受益于公司完整的單臺和雙臺刻蝕設備布局、核心技術持續突破、產品升級快速迭代、刻蝕應用覆蓋豐富等優勢,2023年公司CCP和ICP刻蝕設備均在國內主要客戶芯片生產線上市占率大幅提升。”中微公司表示。

    中微公司稱,公司的TSV(硅通孔,一項高密度封裝技術)硅通孔刻蝕設備也越來越多地應用于先進封裝和MEMS(微機電系統)器件生產。

    此外,中微公司預計2023年度實現歸屬于母公司所有者的扣除非經常性損益的凈利潤為11億元到12.4億元,同比增加約19.64%到34.86%。

    中微公司表示,2023年非經常性損益約6.12億元,較去年同期的2.50億元增加約3.62億元。非經常性損益的變動主要系公司于2023年出售了部分持有的拓荊科技股份有限公司股票,產生稅后凈收益約4.06億元。

    四款沉積設備進入市場

    研發方面,中微公司表示,公司在新產品開發方面取得了顯著成效,近兩年新開發的LPCVD(低壓化學氣相沉積)設備和ALD(原子層沉積)設備,目前已有四款設備產品進入市場,其中三款設備已獲得客戶認證,并開始得到重復性訂單。

    “公司新開發的硅和鍺硅外延EPI(在襯底上生長出的半導體薄膜)設備、晶圓邊緣Bevel(斜角或倒角)刻蝕設備等多個新產品,也會在近期投入市場驗證。”中微公司稱。

    同時,中微公司稱,公司開發的包括碳化硅功率器件、氮化鎵功率器件、Micro-LED(發光二極管微縮化和矩陣化技術)等器件所需的多類MOCVD設備也取得了良好進展,2024年將會陸續進入市場。

    產能方面,中微公司稱,公司在南昌約14萬平方米的生產和研發基地已正式投入使用,上海臨港的約18萬平方米的生產和研發基地部分生產廠房已經投入使用,支持了公司銷售快速增長的達成。

    “公司持續開發關鍵零部件供應商,推動供應鏈穩定、安全,設備交付率保持在較高水準,設備的及時交付也為公司銷售增長提供有力支撐。公司特別重視核心技術的創新,始終強調創新和差異化并保持高強度的研發投入,同時公司生產運營管理水平不斷提升,產品成本、運營費用控制能力有效增強。”中微公司表示。

    此外,中微公司表示,2023年公司的MOCVD設備受LED(發光二極管)終端市場波動影響,銷售額有所下滑;而公司備品備件及服務方面則維持健康水平。

    封面圖片來源:視覺中國-VCG21409100706

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