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          創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50雙雙反彈,北向資金凈買127億元

          每日經濟新聞 2024-02-29 12:44:49

          每經記者 劉明濤    每經編輯 彭水萍

          今日A股低開后快速反彈,創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50一度漲逾3%,午前各大指數均出現一定回落,截至上午收盤,上證指數漲0.73%報2979.56點,深證成指漲1.65%報9196.71點,創(chuàng)業(yè)板指漲1.79%報1780.22點,科創(chuàng)50指數漲2.35%報789.76點,北證50指數漲1.07%。市場半日成交額6746.3億元,北向資金實際凈買入126.98億元。

          流動性方面,央行公告稱,為維護月末流動性平穩(wěn),2月29日以利率招標方式開展1170億元7天期逆回購操作,中標利率為1.8%。Wind數據顯示,當日有580億元逆回購到期,因此單日凈投放590億元。

          消息面,2月29日,國家統計局發(fā)布《中華人民共和國2023年國民經濟和社會發(fā)展統計公報》稱,初步核算,2023年國內生產總值1260582億元,同比增長5.2%,最終消費支出拉動國內生產總值增長4.3個百分點,資本形成總額拉動國內生產總值增長1.5個百分點,貨物和服務凈出口向下拉動國內生產總值0.6個百分點。

          英偉達最新高端H200芯片將于第二季開始出貨,四大云端服務供應商積極爭搶,以因應龐大的AI運算需求,Google主力代工廠廣達首批搭載該款AI芯片的AI服務器已開案,預計第三季完成后段測試并量產。

          板塊方面,半導體產業(yè)鏈爆發(fā),光刻機方向領漲,奧普光電、福晶科技、亞翔集成、柏誠股份等漲停,氫能源概念表現活躍,新動力、國林科技、洪濤股份也紛紛漲停。高位股退潮,國脈文化跌停,華研精機、克勞斯、華揚聯眾等大跌。

          光刻機是半導體制造的核心設備,其性能直接決定了芯片的工藝水平,開發(fā)難度大,價值量高,市場規(guī)模可觀,目前市場主流光刻設備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類;分辨率、套刻精度、產率是光刻機的核心指標,其中,分辨率直接決定制程,極致的分辨率水平是光刻機產業(yè)不懈的追求,是光刻機最重要的指標,而套刻精度影響良率,產率影響光刻機的產能及經濟性。此外,多重曝光技術可在光刻機分辨率不變的情況下進一步提高芯片制程,應用較為廣泛。

          在全球半導體產業(yè)持續(xù)擴張的趨勢下,光刻機市場規(guī)模長期可觀;此外,光刻機開發(fā)難度大,產業(yè)壟斷性強,是海外對華半導體制裁的重災區(qū),直接影響國內半導體產業(yè)先進制程的發(fā)展,因此光刻機自主突破的重要性尤為凸顯,光刻機國產產業(yè)鏈頗具潛力。

          這里,通過整合多家券商最新研報信息,為粉絲朋友帶來4家公司簡介,僅供參考。

          1、新萊應材

          半導體零部件的國產化落地已然進入攻堅期和深水區(qū),公司在該賽道深耕多年地位顯著,疊加產品品類擴張有望打開全新空間。(華福證券) 

          2、奧普光電

          奧普光電近年通過“長光所體外孵化+上市公司外延并購”的模式實現快速發(fā)展。航天復材需求旺盛,高精度光柵尺和編碼器、工業(yè)級CMOS圖像傳感器深度受益國產替代,公司進入業(yè)績拐點。(華西證券) 

          3、上海新陽

          公司自主研發(fā)的KrF光刻膠持續(xù)通過認證客戶,已在國內主流晶圓制造廠商處實現供貨,ArF光刻膠目前處于客戶端認證階段。拋光液方面,目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進入客戶端,實現銷售,CeO2體系的部分產品已在客戶產線上線測試,性能良好,公司的第二、第三成長曲線正逐步成型。(開源證券) 

          4、艾森股份

          公司立足于傳統封裝領域電鍍液及配套試劑,已占據國內傳統封裝用電鍍液及配套試劑的主力供應商地位,并沿著產業(yè)鏈向其他應用領域發(fā)展,已逐步覆蓋被動元件、PCB、先進封裝、晶圓制造、光伏等領域的電鍍工藝環(huán)節(jié),同時通過光刻膠及配套試劑產品切入光刻環(huán)節(jié),相關產品將進一步提高公司產品線覆蓋的廣度,成長空間進一步打開,營收規(guī)模有望繼續(xù)擴大。(平安證券) 

          封面圖片來源:視覺中國-VCG211298090733

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          今日A股低開后快速反彈,創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50一度漲逾3%,午前各大指數均出現一定回落,截至上午收盤,上證指數漲0.73%報2979.56點,深證成指漲1.65%報9196.71點,創(chuàng)業(yè)板指漲1.79%報1780.22點,科創(chuàng)50指數漲2.35%報789.76點,北證50指數漲1.07%。市場半日成交額6746.3億元,北向資金實際凈買入126.98億元。 流動性方面,央行公告稱,為維護月末流動性平穩(wěn),2月29日以利率招標方式開展1170億元7天期逆回購操作,中標利率為1.8%。Wind數據顯示,當日有580億元逆回購到期,因此單日凈投放590億元。 消息面,2月29日,國家統計局發(fā)布《中華人民共和國2023年國民經濟和社會發(fā)展統計公報》稱,初步核算,2023年國內生產總值1260582億元,同比增長5.2%,最終消費支出拉動國內生產總值增長4.3個百分點,資本形成總額拉動國內生產總值增長1.5個百分點,貨物和服務凈出口向下拉動國內生產總值0.6個百分點。 英偉達最新高端H200芯片將于第二季開始出貨,四大云端服務供應商積極爭搶,以因應龐大的AI運算需求,Google主力代工廠廣達首批搭載該款AI芯片的AI服務器已開案,預計第三季完成后段測試并量產。 板塊方面,半導體產業(yè)鏈爆發(fā),光刻機方向領漲,奧普光電、福晶科技、亞翔集成、柏誠股份等漲停,氫能源概念表現活躍,新動力、國林科技、洪濤股份也紛紛漲停。高位股退潮,國脈文化跌停,華研精機、克勞斯、華揚聯眾等大跌。 光刻機是半導體制造的核心設備,其性能直接決定了芯片的工藝水平,開發(fā)難度大,價值量高,市場規(guī)模可觀,目前市場主流光刻設備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類;分辨率、套刻精度、產率是光刻機的核心指標,其中,分辨率直接決定制程,極致的分辨率水平是光刻機產業(yè)不懈的追求,是光刻機最重要的指標,而套刻精度影響良率,產率影響光刻機的產能及經濟性。此外,多重曝光技術可在光刻機分辨率不變的情況下進一步提高芯片制程,應用較為廣泛。 在全球半導體產業(yè)持續(xù)擴張的趨勢下,光刻機市場規(guī)模長期可觀;此外,光刻機開發(fā)難度大,產業(yè)壟斷性強,是海外對華半導體制裁的重災區(qū),直接影響國內半導體產業(yè)先進制程的發(fā)展,因此光刻機自主突破的重要性尤為凸顯,光刻機國產產業(yè)鏈頗具潛力。 這里,通過整合多家券商最新研報信息,為粉絲朋友帶來4家公司簡介,僅供參考。 1、新萊應材 半導體零部件的國產化落地已然進入攻堅期和深水區(qū),公司在該賽道深耕多年地位顯著,疊加產品品類擴張有望打開全新空間。(華福證券) 2、奧普光電 奧普光電近年通過“長光所體外孵化+上市公司外延并購”的模式實現快速發(fā)展。航天復材需求旺盛,高精度光柵尺和編碼器、工業(yè)級CMOS圖像傳感器深度受益國產替代,公司進入業(yè)績拐點。(華西證券) 3、上海新陽 公司自主研發(fā)的KrF光刻膠持續(xù)通過認證客戶,已在國內主流晶圓制造廠商處實現供貨,ArF光刻膠目前處于客戶端認證階段。拋光液方面,目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進入客戶端,實現銷售,CeO2體系的部分產品已在客戶產線上線測試,性能良好,公司的第二、第三成長曲線正逐步成型。(開源證券) 4、艾森股份 公司立足于傳統封裝領域電鍍液及配套試劑,已占據國內傳統封裝用電鍍液及配套試劑的主力供應商地位,并沿著產業(yè)鏈向其他應用領域發(fā)展,已逐步覆蓋被動元件、PCB、先進封裝、晶圓制造、光伏等領域的電鍍工藝環(huán)節(jié),同時通過光刻膠及配套試劑產品切入光刻環(huán)節(jié),相關產品將進一步提高公司產品線覆蓋的廣度,成長空間進一步打開,營收規(guī)模有望繼續(xù)擴大。(平安證券)

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