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          極紫外光刻新技術(shù)問世 能大幅提高能源效率并降低半導(dǎo)體制造成本

          2024-08-02 07:43:40

          每經(jīng)AI快訊,據(jù)日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)官網(wǎng)最新報告,該校設(shè)計了一種極紫外(EUV)光刻技術(shù),超越了半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限。基于此設(shè)計的光刻設(shè)備可采用更小的EUV光源,其功耗還不到傳統(tǒng)EUV光刻機(jī)的十分之一,從而降低成本并大幅提高機(jī)器的可靠性和使用壽命。(科技日報)

          責(zé)編 王曉波

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