新三板創新層公司立光電子新增專利信息授權：“一種磁控濺射旋轉陰極結構”

每經訊，據啟信寶，新三板創新層公司立光電子（874135）新增專利信息，專利權人為立光電子，發明人是胡超川、傅強、朱磊、毛祖攀。專利授權日為2024年10月29日，專利名稱為“一種磁控濺射旋轉陰極結構”，專利類型為中國實用新型專利，專利申請號為CN202420568697.1。

該專利摘要顯示：本實用新型公開了一種磁控濺射旋轉陰極結構，所述結構包括結構主體，所述結構主體包括工藝氣路，工藝氣路包括主氣管和多段輔助氣管分段調節，所述結構主體還包括端頭護罩、上端支撐護罩、靶材卡箍護罩，本方案采用分段布氣，采用主氣管和多段輔助氣管分段調節，主氣管量程1000sccm，通入50?300sccm氬氣，50?300sccm氧氣，通過質量流量計混合后進入真空箱體陰極靶位處，七段輔助氣管通入氬氣、氧氣有效改善均勻性，輔助氣管量程100sccm，通入0?50sccm氬氣、0?50sccm氧氣，依據測試均勻性結果分別調整通入氣體量，有效改善均勻性。

(記者 曾健輝)

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