每日經濟新聞 2024-04-09 17:32:43
每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：SAQP自對準四重曝光對于曝光設備的套刻精度要求較低，但對于側墻刻蝕、原子層沉積、硬掩模沉積、掩膜圖像轉移等工藝的精度要求較高。公司的產品是否可以用于saqp技術的相關環節？
國林科技（300786.SZ）4月9日在投資者互動平臺表示，公司暫未涉及相關業務。
(記者 畢陸名)
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